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潔(jié)淨(jìng)室粒子(zǐ)沉(chén)積測試

更(gēng)新時間:2020-08-26  |  點(diǎn)擊(jī)率:2414

粒(lì)子沉(chén)積測試在國(guó)外(wài)某些高級別(bié)潔(jié)淨室(shì)頗受(shòu)重視(shì)。因為(wéi)通過(guò)此項(xiàng)測試,可(kě)以(yǐ)讓(ràng)用戶了解可(kě)能(néng)沉(chén)積到潔淨(jìng)室(shì)工作(zuò)表麵或產品(pǐn)上的空氣(qì)中懸(xuán)浮粒子的(dí)數(shù)量(liáng)與粒(lì)子(zǐ)粒(lì)徑(jìng),這對(duì)於(yú)分析(xī)產品的(dí)成(chéng)品率有較高(gāo)的參考價值(zhí)。
其檢(jiǎn)測的(dí)方(fāng)式(shì)是用表麵(miàn)特性與(yǔ)生產(chǎn)中所(suǒ)關(guān)注的(dí)表麵相(xiāng)類似的測量(liáng)采樣板(bǎn),在潔(jié)淨室內收(shōu)集(jí)沉積粒子。再(zài)用(yòng)光學(xué)顯(xiǎn)微鏡,電(diàn)子顯微(wēi)鏡或表麵(miàn)掃描(miáo)儀(yí)確定沉積(jī)粒子的(dí)粒(lì)徑與數(shù)量;也(yě)可以(yǐ)用粒(lì)子沉降光度計獲(huò)得(dé)粒子沉積率的(dí)數(shù)據。後(hòu)以每單位表(biǎo)麵(miàn)麵(miàn)積(jī)在(zài)單(dān)位(wèi)時(shí)間內的粒子(zǐ)質量(liáng)或(huò)數目來表示(shì)沉積(jī)粒子的數(shù)據(jù)。
1,測量采樣(yàng)板上沉(chén)積粒子的(dí)獲(huò)取(qǔ)方(fāng)法
根據ISO 14644規定(dìng),測試中(zhōng)測(cè)量采樣板(bǎn)應(yīng)放置在與存在(zài)工(gōng)藝汙染風險(xiǎn)表麵的同一平麵(miàn)上(shàng),要(yào)維(wéi)持測(cè)試(shì)采(cǎi)樣板(bǎn)的電勢(shì)與所關注的(dí)測試(shì)表麵(miàn)相(xiāng)同,以排除因(yīn)靜電(diàn)勢不同(tóng)而引(yǐn)起(qǐ)粒子沉積的(dí)差(chà)異,影響到測(cè)試(shì)結果(guǒ)的(dí)可(kě)靠性(xìng)。
具(jù)體(tǐ)的操作遵(zūn)循以下程序和方法:
(1)驗(yàn)證(zhèng)潔淨室各(gè)相(xiāng)關係(xì)統(tǒng)都(dū)在(zài)按(àn)要求正常(cháng)運(yùn)行(háng);
(2)按要(yào)求清潔(jié)測量采樣板,將其表(biǎo)麵粒子濃度減(jiǎn)少到低水平。並(bìng)在測(cè)試(shì)前(qián)測(cè)定各個標注有(yǒu)明(míng)顯(xiǎn)標識(shí)的測量(liáng)采(cǎi)樣(yàng)板(bǎn)上(shàng)的(dí)粒子的(dí)背景濃度;
(3)留下(xià)20%的測量采(cǎi)樣板作(zuò)對比用(yòng)。所留(liú)下的這些采樣板(bǎn)與(yǔ)現(xiàn)場采(cǎi)樣的(dí)測(cè)量采樣板的處理方式(shì)*相(xiāng)同(tóng);
(4)將測(cè)量采(cǎi)樣板放置到(dào)潔淨室規定(dìng)的(dí)位置(zhì)上。在運送到測試(shì)位置的(dí)過(guò)程中(zhōng)要(yào)防止空氣(qì)中(zhōng)懸浮粒(lì)子汙染(rǎn)測(cè)試采樣板(bǎn)表麵(miàn);
(5)在潔淨(jìng)室內(nèi)規(guī)定位置(zhì)上(shàng)暴(bào)露測量采樣板,以在(zài)測量采(cǎi)樣板上(shàng)得(dé)到(dào)足(zú)夠(gòu)的(dí)粒子沉積量,足(zú)以(yǐ)獲(huò)得(dé)從統(tǒng)計學角度的有效(xiào)數(shù)據為(wéi)原則(zé)。暴(bào)露時(shí)間(jiān)依(yī)潔(jié)淨室類型(xíng),運行方式和(hé)所使用的粒子(zǐ)計數儀器而定(dìng);
(6)而(ér)用(yòng)作對比(bǐ)用的20%測量采樣(yàng)板(bǎn),則(zé)應(yīng)存放在密閉容(róng)器(qì)中以(yǐ)防止被汙(wū)染(rǎn)。
2,測(cè)量(liáng)采(cǎi)樣(yàng)板上沉積(jī)粒子(zǐ)的計(jì)數和粒徑(jìng)確定
如果(guǒ)使用(yòng)光(guāng)學顯(xiǎn)微(wēi)鏡,可以(yǐ)用校準過(guò)的(dí)綫性或(huò)圓形量度(dù)板進行粒徑(jìng)測量。如果使用(yòng)電(diàn)子顯微(wēi)鏡,可以用(yòng)經(jīng)過(guò)校(xiào)準的(dí)已知(zhī)綫(xiàn)距的(dí)光(guāng)柵(zhà),對照實(shí)際(jì)粒徑與圖像(xiàng)尺寸在(zài)確(què)定(dìng)粒(lì)子尺寸。如(rú)果(guǒ)用表(biǎo)麵掃(sǎo)描儀,可用廠商提(tí)供(gōng)的(dí)粒(lì)徑(jìng)校(xiào)準(zhǔn)資料,進行(háng)各粒徑(jìng)計(jì)數(shù)統計。
測量采(cǎi)樣板(bǎn)上部分(fēn)麵積(jī)的(dí)計(jì)數數(shù)據,可以(yǐ)外推到整(zhěng)個(gè)采樣板,這樣就可統(tǒng)計(jì)由各(gè)測(cè)量采樣(yàng)板(bǎn)總(zǒng)麵(miàn)積上(shàng)的粒子總數(shù)(Nt)以(yǐ)及按(àn)粒徑範(fàn)圍的分類。各測量(liáng)采樣板(bǎn)表麵沉積(jī)的粒(lì)子(zǐ)濃(nóng)度按下式計算(suàn):
Di=(Nt-Nb)/Aw
式中,Di為(wéi)當設有(yǒu)多(duō)個(gè)測量采樣(yàng)板時第(dì)i個(gè)測量采(cǎi)樣(yàng)板所測得(dé)的(dí)粒子表(biǎo)麵(miàn)沉積(jī)濃度(dù),pcs/cm2;
   Nt為(wéi)第(dì)i個(gè)測(cè)量(liáng)采樣板上的(dí)粒(lì)子總數;
   Nb為第i個測量采樣板(bǎn)暴露於潔淨室環(huán)境之前采(cǎi)樣(yàng)板上殘(cán)存的粒子(zǐ)總(zǒng)數(shù),以未暴露(lòu)的20%測量(liáng)采樣板(bǎn)的平(píng)均值為準(zhǔn);
    Aw為第(dì)i個(gè)測量(liáng)采樣板的表(biǎo)麵積(jī),cm2
潔(jié)淨室或(huò)潔(jié)淨(jìng)設施的(dí)粒(lì)子(zǐ)沉(chén)積率用平(píng)均(jūn)粒子(zǐ)表麵(miàn)沉(chén)積(jī)濃度(dù)除以(yǐ)暴露(lòu)時間(jiān)。
3,測量(liáng)采樣(yàng)板(bǎn)材(cái)料(liào)與測(cè)試儀器(qì)
(1)測(cè)量采樣板材(cái)料
依據所(suǒ)要檢(jiǎn)測(cè)的(dí)粒徑以及測(cè)量的(dí)儀(yí)器(qì)與方(fāng)法不同(tóng),可(kě)選(xuǎn)擇以(yǐ)下(xià)材料(liào):微(wēi)孔薄(báo)膜過濾(lǜ)器;雙麵(miàn)膠(jiāo)帶;培養(yǎng)皿(mǐn);帶有(yǒu)對比色(一(yī)般(bān)為黑(hēi)色(sè))的聚酯培養皿;照相膠(jiāo)片;顯微(wēi)鏡(jìng)膠片(piàn);玻(bō)璃或(huò)金(jīn)屬鏡(jìng)片;半(bàn)導體(tǐ)晶(jīng)片(piàn)坯料;玻(bō)璃光掩(yǎn)膜(mó)基(jī)片(piàn)。
測量板(bǎn)的表麵光滑度(dù)與待計數的粒(lì)子(zǐ)粒(lì)徑相適應,保(bǎo)證(zhèng)易於(yú)看到(dào)粒子(zǐ),所采用(yòng)的(dí)測量手(shǒu)段與方(fāng)法應(yīng)能(néng)分(fēn)辨(biàn)出(chū)沉積在(zài)采樣板(bǎn)上的小粒(lì)徑(jìng)。
(2)測(cè)量儀器(qì)
根據要求測量的沉積粒(lì)子(zǐ)粒徑範圍(wéi)的不(bù)同(tóng),可分別(bié)采用以下(xià)幾種儀(yí)器,選(xuǎn)擇(zé)儀(yí)器時還要考(kǎo)慮收集,分析樣(yàng)品(pǐn)要求(qiú)的時間(jiān)等(děng)因(yīn)素。
粒(lì)徑(jìng)≥2um時(shí),可(kě)采用光學顯微鏡;粒(lì)徑≥0.1um時,采(cǎi)用(yòng)表(biǎo)麵分析(xī)掃描(miáo)儀;粒徑(jìng)≥0.02um時,可(kě)采用電子(zǐ)顯(xiǎn)微鏡(jìng)。
4,測試報告(gào)
除(chú)去(qù)測試(shì)報告常(cháng)規的各項(xiàng)內容以外(wài)還(huán)應(yīng)報告(gào):
(1)儀(yí)器操作(zuò)者或(huò)數據(jù)收(shōu)集設(shè)施(shī)的(dí)名稱;
(2)測試儀器的名(míng)稱或(huò)數(shù)據處理設(shè)施(shī)的(dí)名稱;
(3)測試和測(cè)量(liáng)類(lèi)型,測量(liáng)條件;
(4)測(cè)量點的位置;
(5)測(cè)量采樣(yàng)時(shí)潔(jié)淨室(shì)和(hé)潔淨(jìng)設施所(suǒ)處的狀(zhuàng)態。