濕度控製(zhì)是(shì)無塵車(chē)間生(shēng)產必需(xū)具備的(dí)重(zhòng)要條件，相對(duì)濕度是無塵車(chē)間
，潔(jié)淨(jìng)室(shì)運作過程(chéng)中(zhōng)一個常用(yòng)的(dí)環境控製條(tiáo)件(jiàn)。半導體(tǐ)無塵(chén)車間
，潔淨室(shì)中(zhōng)的典型的相對濕(shī)度的(dí)目標(biāo)值(zhí)大(dà)約(yuē)控製(zhì)在30至(zhì)50%的(dí)範圍內，允(yǔn)許誤(wù)差(chà)在(zài)±1%的(dí)狹(xiá)窄的範圍內(nèi)，例(lì)如光(guāng)刻(kè)區或者在遠(yuǎn)紫(zǐ)外(wài)綫(xiàn)處理(lǐ)(DUV)區甚至(zhì)更小(xiǎo)而在(zài)其他(tā)地方則(zé)可以放鬆到(dào)±5%的(dí)範圍(wéi)內(nèi)。
近年(nián)，在這(zhè)些規(guī)定(dìng)範圍中保(bǎo)持(chí)處理空(kōng)氣過程，相對(duì)濕(shī)度(dù)有一係(xì)列可能使潔淨室總體(tǐ)表現(xiàn)下降的(dí)因素，其(qí)中包括：
1
，細(xì)菌(jūn)生長；
2
，工作人(rén)員感到(dào)室(shì)溫(wēn)舒(shū)適的(dí)範圍；
3
，出(chū)現靜電荷(hé)；
4
，金屬(shǔ)腐(fǔ)蝕(shí)；
5
，水汽冷(lěng)凝(níng)；
6
，光刻(kè)的退化(huà)；
7
，吸(xī)水性。
細菌(jūn)和其他生(shēng)物(wù)汙(wū)染(黴(méi)菌，病毒，真菌，蟎蟲(chóng))在(zài)相對濕度(dù)超過(guò)60%的環境中可以(yǐ)活躍地繁殖。一些(xiē)菌(jūn)群(qún)在相(xiāng)對濕度(dù)超(chāo)過30%時(shí)就可以(yǐ)增長。在相對(duì)濕度(dù)處於(yú)40%至(zhì)60%的範圍(wéi)之間(jiān)時，可以使細菌的影(yǐng)響(xiǎng)以(yǐ)及(jí)呼吸道(dào)感染降(jiàng)至(zhì)zui低。相對濕度在40%至(zhì)60%的範圍同(tóng)樣(yàng)也是人類感覺舒(shū)適的(dí)適度範(fàn)圍。濕度(dù)過(guò)高(gāo)會(huì)使人覺(jué)得氣(qì)悶(mèn)，而(ér)濕(shī)度(dù)低於30%則會讓(ràng)人(rén)感覺(jué)幹燥，皮(pí)膚破裂，呼(hū)吸道(dào)不(bù)適(shì)以(yǐ)及情感上的不(bù)快。
高濕(shī)度實際(jì)上減(jiǎn)小了(liǎo)無塵車(chē)間
，潔(jié)淨室表麵的靜電荷(hé)積累──這是大家希(xī)望(wàng)的(dí)結果。較低的濕度(dù)比較適合電荷的積累(léi)並(bìng)成為(wéi)潛在的(dí)具有(yǒu)破壞性(xìng)的(dí)靜電(diàn)釋放源。當相對(duì)濕度(dù)超(chāo)過50%時，靜(jìng)電荷(hé)開始迅(xùn)速消(xiāo)散，但是(shì)當(dāng)相對濕度(dù)小(xiǎo)於(yú)30%時，它們可以(yǐ)在(zài)絕(jué)緣體或者未(wèi)接(jiē)地的(dí)表(biǎo)麵(miàn)上持續存(cún)在很長(cháng)一段時間(jiān)。相對濕度(dù)在35%到40%之(zhī)間可以作為(wéi)一(yī)個(gè)令(líng)人(rén)滿意的(dí)折中(zhōng)，半導(dǎo)體無塵(chén)車間(jiān)
，潔淨(jìng)室一般都(dū)使(shǐ)用(yòng)額外(wài)的(dí)控(kòng)製裝置以限製靜(jìng)電荷(hé)的積累。很(hěn)多化學(xué)反(fǎn)應的速(sù)度(dù)，包(bāo)括腐(fǔ)蝕(shí)過程，將隨著相對(duì)濕(shī)度的增高(gāo)而加快(kuài)。所有暴露在(zài)無塵(chén)車間(jiān)
，潔(jié)淨室周圍(wéi)空(kōng)氣中的表麵(miàn)都(dū)很快(kuài)地被覆蓋上至(zhì)少(shǎo)一(yī)層單分(fēn)子(zǐ)層的水(shuǐ)。當這些(xiē)表麵是由(yóu)可以與(yǔ)水反(fǎn)應(yīng)的(dí)薄金(jīn)屬塗層組(zǔ)成時(shí)，高(gāo)濕度可(kě)以(yǐ)使反(fǎn)應加速(sù)。幸(xìng)運(yùn)的是，一些金(jīn)屬(shǔ)，例(lì)如(rú)鋁，可以(yǐ)與水形(xíng)成(chéng)一層(céng)保護型的氧(yǎng)化(huà)物，並(bìng)阻(zǔ)止進(jìn)一步(bù)的(dí)氧化反(fǎn)應;但(dàn)另一(yī)種情(qíng)況(kuàng)是(shì)，例如(rú)氧化銅，是(shì)不(bù)具有保(bǎo)護能(néng)力(lì)的(dí)，因此(cǐ)，在(zài)高(gāo)濕(shī)度的環(huán)境中(zhōng)，銅(tóng)製表(biǎo)麵(miàn)更(gēng)容(róng)易受到腐蝕(shí)。在(zài)相對濕(shī)度較高的環境(jìng)中，濃縮(suō)水形的(dí)毛細管力在顆(kē)粒(lì)和表麵(miàn)之(zhī)間形成了(liǎo)連接(jiē)鍵，可以增加顆粒與(yǔ)矽(guī)質表麵的黏(nián)附(fù)力。相對濕度小於50%時並(bìng)不(bù)重要(yào)，但(dàn)當相對(duì)濕(shī)度(dù)在70%左(zuǒ)右(yòu)時(shí)，就成為顆粒之(zhī)間黏附的主要(yào)力量(liáng)。
到目前為止(zhǐ)，在半(bàn)導(dǎo)體無(wú)塵(chén)車間(jiān)
，潔淨室中(zhōng)zui迫切需要適(shì)當(dāng)控製(zhì)的是光刻膠(jiāo)的敏感(gǎn)性(xìng)。由(yóu)於光(guāng)刻(kè)膠(jiāo)對相對濕(shī)度極(jí)為敏(mǐn)感的特(tè)性，它對相對濕度(dù)的(dí)控製範圍(wéi)的(dí)要求是zui嚴(yán)格的水(shuǐ)準(zhǔn)。
實際(jì)上，相對濕度和(hé)溫度對於(yú)光(guāng)刻膠(jiāo)穩(wěn)定性以(yǐ)及的尺寸控(kòng)製都是(shì)很關鍵的(dí)。甚(shèn)至是在恒溫(wēn)條件下(xià)，光刻(kè)膠的(dí)粘性(xìng)將隨(suí)著(zhuó)相(xiāng)對(duì)濕(shī)度的(dí)上升而(ér)迅(xùn)速下(xià)降(jiàng)。當然，改變粘性，就會(huì)改變(biàn)由固定(dìng)組分(fēn)塗層形(xíng)成的保(bǎo)護膜的厚(hòu)度。相對(duì)濕(shī)度的3%的變(biàn)異將使保護厚度(dù)改變59.2A。
此(cǐ)外(wài)，在(zài)高的相(xiāng)對濕(shī)度環境下，由於(yú)水分(fēn)的(dí)吸(xī)收(shōu)，使烘(hōng)烤(kǎo)循(xún)環(huán)後光(guāng)刻(kè)膠(jiāo)膨(péng)脹加重。光刻(kè)膠附著力(lì)同(tóng)樣(yàng)也可以受到較(jiào)高(gāo)的(dí)相(xiāng)對濕度的負麵(miàn)影(yǐng)響。較(jiào)低(dī)的(dí)相(xiāng)對濕度(dù)(約30%)使光(guāng)刻(kè)膠附著(zhuó)更加容易，甚至(zhì)不(bù)需(xū)要(yào)聚合(hé)改性劑(jì)，如六(liù)甲(jiǎ)基二矽(guī)氮(dàn)烷(wán)(HMDS)。